當(dāng)前標(biāo)簽：CVD化學(xué)氣相沉積爐
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CVD化學(xué)氣相沉積爐是制備C/C復(fù)合材料的關(guān)鍵技術(shù)裝備。感應(yīng)加熱CVD化學(xué)氣相沉積爐設(shè)備采用中頻感應(yīng)加熱，設(shè)備采用立式，爐底升降進(jìn)出料結(jié)構(gòu)。溫控系統(tǒng)選用日本島電（或同檔次一線品牌）智能程序控溫儀控溫，全套設(shè)備包含爐體、中頻電源、電控系統(tǒng)、氣
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氣相沉積爐概述：CVD化學(xué)氣相沉積爐是用于制備碳碳復(fù)合材料，完成CVD氣相沉積工藝的重要工藝裝備。1)設(shè)計(jì)溫度：1250℃/1650℃/1800℃/2200℃2)常用溫度：900~1200℃3)真空度：＜50Pa4)壓升率：空爐冷態(tài)6.67
